超纯水设备电阻率大于18MΩ*cm或接近18.2MΩ*cm极限值(25℃)超纯水，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。超纯水是既将水中的导电介质几乎完全去除。一般工艺很难达到水平，采用预处理、反渗透技术、超纯化处置以及后级处置四大方法，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.2MΩ*cm25℃。单/多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、电池(蓄电池)显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器、洁净产品及各种元器件等生产工艺用高纯水

　　代替了保守的离子交换水处置技术达到现代工业和环保的需求，EDI超纯水设备从发明以来。所以当纯水设备中的EDI出现问题和损坏时势就会影响企业的正常生产，增加公司的运营本钱。

　　低于额定流量情况下运行，极板侧积聚的热量得不到有效散发，造成EDI接近两极的膜片和隔网先发热变形,EDI膜块长期在大电流。EDI浓水压差增加，水质和水量下降，严重会碳化漏水。EDI膜块临时没有清洗颐养，EDI膜片和通道结垢，进出水压差增加，造成产水水质下降，电流无法调节，电压上升。超滤系统控制余氯等氧化剂不当，进EDI氧化剂超量，导致EDI树脂破碎，堵塞产水通道，水量下降。采用不当的清洗和消毒，直接导致EDI树脂破碎，进出水压差增大，造成产水水质和水量下降。EDI系统手动运行时，缺水状态下加电，直接导致膜片和树脂的发热碳化，清洗无效，无法使用。EDI进水前无保安滤器，或装置时没有清洗管道和水箱，导致异物堵塞EDI通道，进出水压差增加，造成产水水量严重下降，清洗无效。